中国资产迎来大爆发之夜！深夜

今夜美股市场表现强劲，中国资产三大指数集体收涨，集体巨大型科技股全线走高，爆发飙涨其中苹果公司涨幅超过3%。科技不过，深夜存储芯片板块出现明显分化，中国资产闪迪大跌超11%，集体巨美光科技跌超7%，爆发飙涨希捷科技与西部数据跌幅均超8%，科技SK海力士跌超9%。深夜

中概股表现亮眼，中国资产纳斯达克中国金龙指数上涨超3%。集体巨个股方面，爆发飙涨名创优品涨近10%，科技阿里巴巴、贝壳涨超7%；新氧、阿特斯太阳能、小鹏汽车、爱奇艺、哔哩哔哩等涨幅超5%；金山云、好未来、世纪互联、小马智行、唯品会等涨超3%。

值得注意的是，北京时间15日，阿斯麦（ASML）披露的二季度财报超出市场预期。受AI芯片强劲需求推动，阿斯麦大幅上调全年业绩展望，并指出客户正加速产能扩张计划。受此利好提振，阿斯麦股价一度涨超3%，随后涨幅有所回落。

美股走高，重磅经济数据出炉

当地时间周三，美国劳工统计局公布数据显示，美国6月生产者价格指数（PPI）同比上涨5.5%，环比下降0.3%；剔除食品和能源的核心PPI同比上涨4.7%，环比增长0.2%。上述数据均低于市场此前预期。

数据公布后，市场对美联储7月政策会议加息的预期进一步降温。纽约联储主席、美联储三号人物约翰·威廉姆斯（John Williams）指出，通胀可能已经见顶，整体通胀率将在今年年底降至3.25%左右，随后继续向2%的目标靠拢，并最终在2028年实现该目标。威廉姆斯强调，将通胀持续恢复至2%的目标是美联储的首要任务，当前的货币政策立场非常适合实现这一目标。

受此影响，美股三大指数集体上涨。截至发稿，道指涨0.33%，纳指涨0.78%，标普500指数涨0.41%。大型科技股集体走高，苹果公司涨超3%，亚马逊、微软涨超2%。中概股集体大涨，纳斯达克中国金龙指数涨超3%，阿里巴巴涨超7%，小鹏汽车、哔哩哔哩涨超5%。

Aehr Test Systems股价飙升超40%

半导体器件测试与老化解决方案头部供应商Aehr Test Systems（Aehr）盘中一度大涨超50%。截至发稿，该公司股价涨幅仍超过40%。

此前，Aehr披露了截至2026年5月29日的2026财年第四财季及全年财务业绩。2026财年第四财季，公司净营收达1880万美元，上年同期为1410万美元；通用会计准则（GAAP）净利润140万美元，同比实现扭亏为盈。当季，公司新增订单规模达6070万美元，创单季度历史新高。

Aehr预计，截至2027年6月25日的2027财年，公司营收将达到1.3亿至1.5亿美元，同比增速高达160%至200%。

阿斯麦业绩大超预期，上调全年指引

芯片行业已成为近一两年资本市场的绝对主角，而阿斯麦的业绩状况在很大程度上反映了芯片行业的整体繁荣度。作为芯片产业的景气“吹哨人”，阿斯麦的设备订单、业绩指引以及新技术落地情况，都会提前释放半导体行业周期冷暖的关键信号。

7月15日，全球光刻机龙头企业阿斯麦（ASML）发布的财报显示：
* 第二季度营收：93.3亿欧元（约合109亿美元），超出分析师预期的88亿欧元；
* 二季度净利润：29.2亿欧元，高于市场预期的26.2亿欧元；
* 毛利率：当季毛利率为54%，同样高于市场预期的52%。

与此同时，阿斯麦大幅上调全年业绩指引，预计2026年净销售额为430亿至450亿欧元，而此前预期为360亿至400亿欧元。公司还将毛利率指引从51%—53%提升至54%—56%。

阿斯麦还宣布了激进的产能扩张计划。阿斯麦总裁兼首席执行官克里斯托夫·福凯（Christophe Fouquet）表示：“上半年我们的订单量极其强劲，基于这一势头，我们计划将2026年低数值孔径EUV约65台的产能，在2027年增加30%；同时我们正在研究在2028年再增加30%产能的可能性。同样，我们计划将2026年DUV浸没式光刻机约130台的产能，在2027年增加30%，并正在研究在2028年再增加30%。此外，我们正在持续大幅扩展我们的升级产品组合。”

阿斯麦是全球唯一能够生产极紫外光刻（EUV）设备的制造商，而这些精密设备正是制造英伟达AI训练芯片以及台积电、三星、英特尔等巨头先进制程芯片的必需品。随着微软、谷歌等科技巨头投入数千亿美元建设AI基础设施，芯片制造商正竞相扩大产能，直接拉动了对阿斯麦光刻机的需求。

阿斯麦与英特尔达成里程碑合作

当地时间7月15日，阿斯麦与英特尔联合宣布，英特尔已在其Intel 18A制程节点上，成功运用阿斯麦高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻系统，实现部分Intel Core Ultra Series 3（代号Panther Lake）处理器的量产交付，成为全球首家达成High NA EUV逻辑芯片高良率规模出货的半导体企业。

双方在联合声明中指出，Intel 18A部分关键工艺层已通过High NA EUV双重图形化认证，产品良率现阶段已稳定与现有NXE EUV平台水平持平。

High NA EUV作为阿斯麦当前最先进的光刻解决方案，具备更高的成像分辨率和更严苛的图案保真度，为先进制程的持续微缩奠定关键基础。英特尔晶圆制造业务执行副总裁兼总经理Naga Chandrasekaran表示：“该里程碑不仅印证了英特尔与阿斯麦在技术协同上的深度互信，更充分展示了高数值孔径EUV在量产环境中规模化集成的可行性与可靠性。”

据华泰证券测算，2028年全球半导体制造企业资本开支总额有望达3417亿美元，较2025年的1681亿美元增长103.3%。资本开支的结构性攀升正加速向设备端传导，预计至2028年，全球前道设备（WFE）市场规模将同步增长约108%，达到2414亿美元。光刻设备作为晶圆制造的核心制程环节，约占WFE市场总额的25%，阿斯麦凭借其在光刻领域的垄断性地位，有望率先且深度受益于本轮长周期扩产浪潮。

责编：杨喻程
排版：刘珺宇
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