阿斯麦:英特尔实现High NA EUV高数值孔径光刻量产应用
[综合] 时间:2026-07-18 00:23:15 来源:广知资讯网 作者:探索 点击:93次
7月15日,麦英阿斯麦(ASML)正式宣布,实现数值英特尔代工(Intel Foundry)已在Intel 18A工艺节点上,高光刻成功利用阿斯麦高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻技术,孔径实现了部分Intel Core Ultra Series 3(代号Panther Lake)处理器的量产量产。这一里程碑事件标志着英特尔成为全球首家实现High NA EUV逻辑芯片高产量出货的应用企业。
双方联合声明指出,麦英Intel 18A的实现数值部分工艺层已完成High NA EUV的双重认证,且产品良率已稳定达到现有NXE EUV平台水平。高光刻未来,孔径英特尔与阿斯麦将继续深化合作,量产推动该尖端技术在后续制程节点中的应用广泛应用。
麦英(责任编辑:综合)
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