阿斯麦：英特尔实现High NA EUV高数值孔径光刻量产应用-广知资讯网

当前位置：当前位置：首页 > 时尚 > 阿斯麦：英特尔实现High NA EUV高数值孔径光刻量产应用正文

阿斯麦：英特尔实现High NA EUV高数值孔径光刻量产应用

[时尚] 时间：2026-07-17 13:27:52 来源：广知资讯网作者：焦点点击：129次

7月15日，麦英阿斯麦（ASML）正式宣布，实现数值英特尔代工（Intel Foundry）已在Intel 18A工艺节点上，高光刻成功利用阿斯麦高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻技术，孔径实现了部分Intel Core Ultra Series 3（代号Panther Lake）处理器的量产量产。这一里程碑事件标志着英特尔成为全球首家实现High NA EUV逻辑芯片高产量出货的应用企业。

双方联合声明指出，麦英Intel 18A的实现数值部分工艺层已完成High NA EUV的双重认证，且产品良率已稳定达到现有NXE EUV平台水平。高光刻未来，孔径英特尔与阿斯麦将继续深化合作，量产推动该尖端技术在后续制程节点中的应用广泛应用。

麦英

(责任编辑：探索)

美股存储芯片股大反攻，SK海力士大涨12%，闪迪涨6%，IBM暴跌25%创近40年最大单日跌幅2030年起禁售燃油车为何海南先试？